具体描述
《电子测量技术》以测量原理与测量方法为主线，详细阐述了现代电子测量的基本原理、常用电子测量仪表及测试系统的工作原理，以及它们在实际中的应用。全书分为11章，内容包括：电子测量概论，基本测量理论与测量数据处理，电流、电压与功率测量，电子元器件与集成电路测量，测量用信号发生器，频率与时间测量，波形显示与测量，频域测量技术，数据域分析测试技术，智能仪器与自动测量技术，电子测量技术的综合运用等。
《电子测量技术》在选材上注重系统性、实用性和一定的先进性，概念原理阐述透彻，通俗易懂，内容丰富、实用。特别是在系统阐述测量原理和方法的基础上提出的电子测量技术的综合运用与优化配置方法，具有一定的实用指导意义。
《电子测量技术》既可作为高等职业院校电子信息类专业的教材或参考书，也可供广大从事电子技术和测试测量工作的工程技术人员参考。
现代光学系统设计与分析 图书简介 本书系统地阐述了现代光学系统从理论基础到工程实践的各个关键环节。它不仅为光学工程领域的初学者提供了坚实的理论框架，同时也为资深工程师在复杂系统设计中提供了深入的技术参考和解决方案。全书内容深度与广度兼备，力求在严谨的数学推导与直观的物理图像之间取得完美的平衡。 第一部分：光学基础与成像理论的再认识 本部分聚焦于光学系统的基石——几何光学和物理光学原理的现代化解读与应用。 第一章：光的波动性与几何光学基础的融合 本章首先回顾了光的电磁波本质，并以此为基础，深入探讨了惠更斯-菲涅耳原理、光线传播的费马原理在现代光路追迹中的核心地位。重点阐述了如何将光线追迹法与严格的波动光学理论相结合，以处理非理想光学系统中的像差问题。详细介绍了光瞳、入瞳、出瞳的概念及其对系统视场和能量传输效率的影响。此外，本章还引入了现代光学设计软件中的光线追迹算法的数值实现原理，为后续的优化设计打下基础。 第二章：线性光学系统中的像差理论 本章深入剖析了成像质量的决定性因素——像差。我们不再停留在传统的五大经典像差（球差、彗差、像散、场曲、色差）的定性描述，而是采用基于惠特尼（Wegstein）和吉尔金斯（Glatman）的像差函数展开方法，从数学上精确量化了不同阶次的像差。详细阐述了如何利用Zernike多项式对系统像差进行正交分解和量化分析，并讨论了轴上和轴外像差的差异性校正策略。对于复合同轴系统的色差校正，本章提供了不同类型消色差和复消色差系统的设计准则和材料选择考量。 第三部分：物理光学与图像形成分析 本部分将焦点从光线过渡到波前，探讨了系统对光波的具体调制作用。 第三章：衍射、傅里叶光学与系统调制传递函数 (MTF) 本章是理解现代光学系统性能的关键。我们从夫琅禾费衍射理论出发，系统阐述了傅里叶光学在成像过程中的应用，特别是将光学系统视为一个线性空间不变（LSI）系统。详细推导了系统的点扩散函数（PSF）和线扩散函数（LSF），并着重讲解了调制传递函数（MTF）作为系统性能黄金标准的计算方法和意义。本章还涵盖了有限孔径对成像质量的影响，如光瞳函数（Pupil Function）对MTF的调制作用，以及如何通过优化系统结构来提升高空间频率下的MTF表现。 第四章：非球面与自由曲面在像差校正中的应用 面对高分辨率、大视场的系统需求，传统球面设计已无法满足要求。本章系统介绍了非球面和自由曲面的数学描述，包括典型的二次、三次非球面方程以及更通用的NURBS（非均匀有理B样条）曲面定义。重点阐述了利用自由曲面进行多维度像差校正的优化策略，如利用曲面梯度信息进行波前优化。本章还探讨了自由曲面加工与检测的挑战及其在先进系统（如抬头显示HUD、大规模集成光学模块）中的应用案例。 第三部分：先进光学系统设计与工程实践 本部分将理论应用于实际工程问题，涵盖了特定类型光学系统的设计方法和关键技术。 第五章：变焦与自适应光学系统设计 针对需要改变焦距或对环境扰动进行实时补偿的系统，本章提供了详细的设计方法。变焦系统设计部分，重点分析了恒焦距变倍（Zoom）系统的机械补偿原理和光学组的相对运动规律，并讨论了变焦过程中像面位置的精确控制技术。自适应光学（AO）部分，则详细介绍了波前传感器（如Shack-Hartmann）的工作原理、变形镜（DM）的驱动控制策略，以及闭环控制系统的实时补偿算法，特别关注其在天文观测和生物成像领域的应用。 第六章：微纳光学与集成化技术 本章面向下一代光学设备的小型化和功能集成趋势。详细介绍了微透镜阵列（MLA）的设计与排布，其在光场成像和计算成像中的作用。对衍射光学元件（DOE）的原理、光栅方程、以及如何通过相位型和幅度型DOE实现复杂的光束整形和分束进行了深入讨论。此外，本章还探讨了将光学元件集成到光子芯片平台上的关键技术，如光刻、离子束刻蚀以及键合技术。 第七章：光学系统公差分析与可制造性评估 一个优秀的设计必须是可制造和可装配的。本章侧重于将理论性能转化为实际可达到的指标。详细讲解了敏感性分析（Sensitivity Analysis）方法，如何评估单个元件制造误差和装配偏差对系统MTF和关键像差的影响。本章引入了蒙特卡洛模拟方法来评估公差的概率分布特性，并提出了优化公差分配的策略，确保系统在批量生产中的良率和可靠性。内容覆盖了热力学效应（如热膨胀）对精密光机结构稳定性的影响。 结语 本书力求成为光学设计人员手中不可或缺的工具书，通过深入的理论剖析和丰富的工程案例，引导读者掌握设计高精度、高性能现代光学系统的核心能力。
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