Handbook of Filter Synthesis

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出版者:John Wiley & Sons Inc
作者:Zverev, Anatol I.
出品人:
页数:592
译者:
出版时间:2005-6
价格:752.00元
装帧:Pap
isbn号码:9780471749424
丛书系列:
图书标签:
  • 滤波器设计
  • 电路分析
  • 信号处理
  • 电子工程
  • 模拟电路
  • 网络合成
  • 系统分析
  • 通信系统
  • 控制系统
  • 微波工程
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具体描述

Handbook of Filter Synthesis, originally published in 1967 is the classic reference for continuous time filter design. The plots of filter behaviour for different designs, such as ripple and group delay, make this book invaluable. The discussion of how to synthesize a bandpass, bandpass, or bandstop filter from a lowpass prototype is also very useful.

好的,以下是一份针对一本名为《Handbook of Filter Synthesis》的图书的详细内容介绍,但不包含任何关于该书实际内容的信息: --- 《工程材料科学前沿:结构、性能与应用》 第一部分:宏观结构与材料设计原理 第一章:现代材料学的基本范式 本章深入探讨了当代材料科学领域的核心范式转移,重点阐述了从传统的经验主义方法向以第一性原理计算和高通量实验验证为驱动的设计策略转变。我们首先回顾了晶体学在理解宏观性能中的基础作用,特别是周期性结构如何决定材料的本征特性。随后,章节聚焦于相图分析,详细剖析了多组分系统的热力学平衡状态与亚稳态演化路径。讨论了相变动力学对材料最终微观结构和宏观性能的影响,包括形核、长大过程的理论模型,以及如何通过热处理工艺对这些过程进行精确调控。 第二章:先进表征技术在材料分析中的应用 本章系统介绍了用于揭示材料多尺度结构的关键实验技术。首先,对高分辨透射电子显微镜(HRTEM)的成像原理、像分析方法及其在原子尺度缺陷识别上的能力进行了详尽的论述。接着,深入探讨了同步辐射光源在X射线衍射(XRD)和X射线吸收谱(XAS)中的应用,重点展示了这些技术如何用于原位(in situ)和非原位(operando)条件下材料结构变化的实时监测。此外,还详细阐述了扫描电子显微镜(SEM)结合能量色散X射线光谱(EDS)和电子背散射衍射(EBSD)在微区成分分析和晶粒取向研究中的综合应用。对原子力显微镜(AFM)在表面形貌、力学和电学性质映射方面的最新进展也进行了专门介绍。 第三章:计算材料学:从原子到介观尺度 本章聚焦于计算工具箱在材料设计中的核心地位。详细介绍了密度泛函理论(DFT)在计算电子结构、预测禁带宽度和优化晶格常数方面的精确度与局限性。讨论了分子动力学(MD)模拟在研究材料热输运、扩散过程和缺陷迁移中的应用,并对比了正则系综(NVT)、等温等压系综(NPT)等不同模拟方法的适用场景。最后,引入了基于机器学习(ML)的材料信息学方法,阐述了如何构建和训练模型以加速新材料的筛选和性能预测,尤其是在复杂高熵合金体系中的潜力。 第二部分:特定功能材料的设计与合成 第四章:高性能结构陶瓷的韧化与抗热震设计 本章聚焦于传统陶瓷材料在极端环境下的应用瓶颈,特别是关于提高其断裂韧性的策略。深入分析了纤维增韧、颗粒弥散增韧和相变增韧等机制的理论基础。详细讨论了氧化锆增韧氧化铝陶瓷(ZTA)的微结构设计原则。在抗热震方面,本章探讨了如何通过调控热膨胀系数、热导率和断裂韧性之间的耦合关系,来优化陶瓷的热冲击抵抗能力,包括梯度材料结构的设计思路。 第五章:能源存储材料的电化学界面 本章专注于锂离子电池、钠离子电池及固态电解质的研究进展。详细解析了电极材料在充放电过程中的相变和表面副反应,探讨了新型高比容量正极材料(如富锂锰基氧化物)的结构稳定性问题。在电解质方面,重点介绍了无定形聚合物电解质和陶瓷基固态电解质的离子传导机制,比较了它们在界面阻抗和锂枝晶抑制方面的优缺点。此外,讨论了如何利用原位技术(如电化学石英微天平EQCM)监测电极/电解液界面的演化。 第六章:光电转换材料的载流子动力学 本章深入探讨了用于太阳能电池和光电器件的半导体材料。对钙钛矿材料(Perovskites)的晶体缺陷容忍度、自修复机制以及长期稳定性挑战进行了全面的分析。详细介绍了载流子在吸收层中的分离、传输和复合过程,并从材料设计角度解释了如何通过能级匹配和界面工程来优化器件效率。章节末尾讨论了有机半导体材料的分子堆积对电荷迁移率的影响,以及如何通过控制薄膜形貌来实现高性能光电器件的制备。 第三部分:先进制造与性能调控 第七章:增材制造中的材料行为与缺陷控制 本章着眼于激光选区熔化(SLM)和电子束熔化(EBM)等金属增材制造技术。核心内容聚焦于快速凝固过程中的微观组织演变,特别是快速冷却速率下枝晶的形成、微观偏析的分布。详细分析了增材制造过程中常见的缺陷,如未熔合、气孔和残余应力,并阐述了如何通过优化激光功率、扫描速度和基板预热等工艺参数来有效抑制这些缺陷。对晶粒重构和动态再结晶在应力释放中的作用进行了理论建模。 第八章:材料的力学响应与疲劳寿命预测 本章涵盖了从宏观到微观尺度的材料力学性能研究。详细阐述了塑性变形的本构关系,包括应变硬化、应变率敏感性和超塑性现象的物理机制。在疲劳领域,重点介绍了低周疲劳(LCF)和高周疲劳(HCF)的损伤累积模型,如Manson-Coffin关系和Paris定律,并讨论了裂纹萌生和扩展的微观机制。此外,本章也探讨了增材制造和极端温度环境下材料的蠕变行为与寿命预测方法。 第九章:表面改性技术与防护涂层 本章专注于通过表面工程手段来提升材料的耐磨损、耐腐蚀和生物相容性。详细介绍了等离子体增强化学气相沉积(PECVD)和物理气相沉积(PVD)技术在制备超硬薄膜(如类金刚石DLC膜、TiN涂层)中的原理与工艺控制。讨论了渗碳、渗氮等热化学扩散过程对基体材料表面硬化层的影响。最后,对新型自修复涂层和仿生表面设计(如荷叶效应)在提高材料长期服役可靠性方面的应用前景进行了展望。 ---

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