單晶結構分析原理與實踐

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出版者:科學
作者:陳小明,蔡繼文編
出品人:
頁數:228
译者:
出版時間:2007-8
價格:28.00元
裝幀:平裝
isbn號碼:9787030192165
叢書系列:
圖書標籤:
  • 化學
  • XRD
  • 材料學
  • 晶體結構
  • 晶體
  • 物理
  • 波譜解析
  • 無機化學
  • 單晶衍射
  • 結構解析
  • X射綫衍射
  • 晶體學
  • 材料科學
  • 化學
  • 物理
  • 結構分析
  • 粉末衍射
  • 布拉格定律
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具體描述

本書主要介紹瞭x射綫晶體衍射的基本原理,晶體的培養與衍射數據的收集,晶體結構解析與精修的基本概念、結果的錶達,有關的晶體學數據庫和軟件資源,結構解析的實際例子及常用軟件的使用方法等。本書結閤作者多年從事晶體結構分析所積纍的經驗,總結瞭結構解析過程中常見的問題與解決方法,並提供瞭最新的有關文獻資料。作者對第一版進行瞭增刪、修改,旨在進一步提高理論基礎的易讀性和實用性,突齣與實踐密切相關的內容,對麵探衍射儀的操作、數據處理等內容做瞭適當的增加,提供瞭更多有助於讀者解決結構解析和精修過程中容易遇到問題的內容和實例。

本書可以作為涉及晶體結構分析工作的化學工作者,尤其是閤成、材料、晶體工程和超分子化學等學科的研究生和科研工作者的教材或參考書。

現代半導體材料科學前沿:從微觀形貌到宏觀性能的跨尺度理解 本書旨在為材料學、物理學、化學以及電子工程領域的科研人員、高級工程師和研究生提供一個深入且全麵的視角,聚焦於如何通過先進的錶徵技術和理論模型,解析現代半導體材料體係中復雜結構與性能之間的內在聯係。我們側重於那些超越傳統晶體學範疇、涉及多相、缺陷以及界麵效應的前沿課題。 --- 第一部分:先進錶徵技術基礎與應用擴展 本部分係統梳理瞭理解現代半導體材料所需依賴的關鍵實驗技術,強調其在處理復雜、非理想結構時的潛力與局限性。 第一章:高分辨率電子顯微學在材料界麵研究中的深化應用 本章深入探討瞭透射電子顯微鏡(TEM)和掃描透射電子顯微鏡(STEM)在揭示亞納米尺度結構時的最新進展。重點不再是完美的周期性結構,而是集中於: 異質結界麵失配與應變梯度分析: 詳細介紹如何利用高角度環形暗場像(HAADF-STEM)和環形暗場像(ADF)的對比度變化,定量分析薄膜/襯底界麵處的原子排列畸變、位錯綫密度及其應力分布。討論同步輻射X射綫衍射(XRD)與TEM在互補分析中的策略。 缺陷工程與局域化學態成像: 介紹如何結閤電子能量損失譜(EELS)的空間分辨能力,對點缺陷(如空位、間隙原子團簇)的電子結構和化學配位環境進行實時成像和分析,特彆是針對摻雜雜質在晶格中的偏析行為。 原位(In-situ)電鏡技術: 闡述在加熱、電場或光照等動態條件下,如何觀察材料結構在工作狀態下的演變,如相變、氧化或界麵遷移,從而理解材料的動態穩定性。 第二章:光譜學方法在能帶結構與缺陷態解析中的拓撲視角 本章著重於利用不同波段的光譜技術,來探測材料的電子能級結構和局域激發模式,尤其關注非晶和低維材料。 拉曼光譜與聲子散射機製: 深入分析晶格振動模式(聲子)的頻率、綫寬和強度的變化,如何指示晶格的無序度、晶粒尺寸效應和界麵耦閤強度。探討聲子熱輸運與結構弛豫的關係。 光緻發光(PL)與吸收光譜的深度分析: 超越簡單的帶隙測量,本章側重於分析發射峰的形狀、斯托剋斯位移,以及在不同溫度和激發功率下的行為,用以量化深能級缺陷的濃度和俘獲截麵。 X射綫光電子能譜(XPS)和俄歇電子能譜(AES)的錶麵敏感性: 探討這些技術如何精確確定材料錶麵和近錶麵的元素價態、化學鍵閤環境,以及麵對氧化層和鈍化層時的去捲積策略。 --- 第二部分:多尺度材料模擬與性能預測 本部分轉嚮理論計算和計算模擬,強調如何構建準確的物理模型來預測和解釋實驗觀察到的宏觀性能。 第三章:密度泛函理論(DFT)在復雜閤金與界麵計算中的局限與突破 本章聚焦於如何使用第一性原理計算來處理具有挑戰性的半導體體係,如高熵閤金半導體或復雜氧化物。 Hubbard U(GGA+U)和混閤泛函的應用: 討論如何通過修正標準DFT方法來準確描述d/f電子體係中電子關聯效應導緻的能帶結構和磁性,解決半導體/絕緣體過渡的模擬難題。 超胞方法與缺陷熱力學: 詳細介紹如何構建包含大量點缺陷或位錯的超胞模型,計算缺陷形成能、遷移能壘,並結閤統計熱力學計算缺陷在不同溫度下的平衡濃度。 界麵勢壘計算: 利用DFT計算分析異質結界麵處電荷轉移、能帶對齊(Band Alignment)和界麵態的形成,為優化器件性能提供理論指導。 第四章:介觀尺度模擬:分子動力學與濛特卡洛方法 本章關注於描述材料在時間尺度上和空間尺度上演化的過程,如生長、退火和熱效應。 半導體材料的分子動力學(MD)模擬: 介紹如何構建準確的嵌入原子勢(MEAM, ReaxFF等),模擬晶格弛豫、擴散過程和熱擴散行為。重點分析熔化/凝固過程對晶體質量的影響。 濛特卡洛(MC)方法在相分離與摻雜均勻性中的應用: 討論MC模擬如何高效預測在熱處理過程中,摻雜原子在晶界和錶麵上的重新分布,以及相分離(如半導體/絕緣體共存體係)的動力學。 耦閤模擬策略: 探討將DFT計算得到的勢能麵數據映射到MD模擬中,實現跨尺度的精度傳遞,用於模擬更長時程的熱穩定性問題。 --- 第三部分:功能材料的結構-性能耦閤案例研究 本部分通過具體的應用案例,整閤前兩部分的技術和理論,展示如何解決實際材料科學中的關鍵挑戰。 第五章:低維與二維半導體材料的結構非理想性 重點探討二維材料(如過渡金屬硫族化物、黑磷)在製備過程中引入的結構復雜性,以及這些復雜性如何決定其光電性能。 晶界與摺疊(Wrinkles)的電荷分離效應: 分析多層膜中由於範德華力導緻的堆疊模式差異,以及邊緣效應如何影響載流子的壽命和遷移率。 錶麵終止與環境敏感性: 結閤XPS和原位電鏡,解析不同化學鈍化層對二維材料費米能級調控的機製,以及水汽、氧氣吸附導緻的性能衰減。 第六章:高效率光伏與熱電器件中的熱點問題 本章聚焦於需要精確結構控製以實現最優性能的器件材料。 鈣鈦礦材料的結構弛豫與離子遷移: 深入分析碘離子和有機陽離子在晶格中的快速擴散機製,如何通過計算模擬預測離子遷移路徑和激活能,並討論如何利用固溶(Alloying)策略穩定晶體結構。 半導體熱電器件中的“晶格玻璃化”策略: 探討通過引入大量納米尺度的晶界、位錯或點缺陷,如何有效散射聲子(降低熱導率 $k$),同時盡量保持電子導電性 $ sigma $ 的設計理念,以及如何利用STEM/TEM來確認這些“聲子散射中心”的形態與分布。 --- 本書的獨特價值在於其對“非完美結構”的深度聚焦。它不滿足於理想晶體的描述,而是將目光投嚮真實材料中無處不在的缺陷、界麵、無序和動態變化,提供一套完整的、從原子尺度到宏觀性能的解析框架和工具箱。

作者簡介

目錄資訊

第二版前言
第一版前言
符號說明
第1章 引言
1.1 晶體的特徵
1.2 單晶結構分析簡史
1.3 晶體結構分析的重要性
1.4 結構分析的過程
參考文獻
第2章 衍射幾何與結構因子
2.1 X射綫與衍射幾何
2.2 衍射強度與結構因子
參考文獻
第3章 晶體對稱性與空間群
3.1 晶格
3.2 十四種布喇菲晶格
3.3 晶體的對稱性
3.4 空間群
參考文獻
第4章 晶體培養與衍射實驗
4.1 單晶的培養
4.2 晶體的挑選與安置
4.3 衍射儀基本結構與X射綫的種類
4.4 傳統四圓衍射儀與數據收集
4.5 麵探測器衍射儀與數據收集
4.6 數據的還原與校正
4.7 吸收校正
4.8 衍射數據質量的檢查與評估
4.9 其他衍射方法
參考文獻
第5章 晶體結構解析
5.1 結構解析的過程與相角問題
5.2 傅裏葉閤成
5.3 帕特森方法
5.4 直接法
5.5 結構解析中的若乾問題
參考文獻
第6章 結構精修
6.1 結構精修與最小二乘法
6.2 權重方案與殘差因子
6.3 精修技巧
6.4 結構精修中的若乾問題
6.5 結構精修結果的檢查
參考文獻
第7章 晶體結構的錶達
7.1 晶胞參數與分子式
7.2 分子幾何
7.3 分子間的作用
7.4 結構圖
7.5 結果數據錶
7.6 模擬粉末衍射花樣
7.7 電子密度
參考文獻
第8章 晶體學信息文件、數據庫與程序資源
8.1 CIF的定義與産生方法
8.2 CIF格式與檢查
8.3 CIF實例
8.4 晶體學數據庫
8.5 一些單晶結構分析及繪圖程序簡介
參考文獻
第9章 結構解析的實際例子
9.1 經典配閤物與空間群P1
9.2 有機天然産物絕對結構(構型)的確定
9.3 配位聚閤物一空間群Cc與C2/c
9.4 外消鏇化閤物與手性空間群
9.5 含有多個分子的獨立單元
9.6 晶體結構與氫鍵及其錶達
9.7 具有孔洞結構的配位聚閤物
9.8 非缺麵孿晶
9.9 用銅靶光源確定不含重原子的有機物絕對構型
9.10 用銅靶光源收集金屬一有機物晶體的衍射數據
9.11 超低溫晶體衍射數據的收集
9.12 甜味蛋白的晶體結構
參考文獻
第10章 SHELXTL程序與結構解析和精修
10.1 SHELXTL主要子程序簡介
10.2 XPREP
10.3 XS
10.4 XP:結構模型的檢查和修改
10.5 XL
10.6 XP:畫圖
10.7 XCIF
參考文獻
第11章 無序結構精修實例
11.1 無序結構精修基本原理與方法
11.2 高氯酸根離子
11.3 環戊二烯基
11.4 混閤配體的無序
11.5 苯環與烷基鏈的無序
11.6 DMF分子的兩重無序
11.7 金屬離子摻雜引起的無序
參考文獻
索引
· · · · · · (收起)

讀後感

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用戶評價

评分☆☆☆☆☆

作為一名資深的光譜學研究者,我原本以為晶體結構分析對我來說隻是一個輔助工具,但這本書徹底改變瞭我的看法。它的敘述風格非常嚴謹,充滿瞭數學美感,尤其是關於傅裏葉變換在結構因子計算中的應用那幾節,作者的推導過程嚴密且無懈可擊,充分展現瞭物理圖像的深刻性。與其他側重軟件操作手冊的書籍不同,它更注重基礎理論的構建,讓你明白“為什麼”要這樣做,而不是僅僅告訴你“怎麼做”。我特彆欣賞書中對結構解析中的挑戰性問題,比如高對稱性晶體、孿晶問題以及微小結構偏差的精細化處理,所提供的深刻見解。那種層層剝開迷霧、直達本質的閱讀體驗,讓人心悅誠服。對於需要進行高精度結構測定的高級研究人員而言,這本書的理論深度足以支撐他們去攻剋更具挑戰性的科學難題。

评分☆☆☆☆☆

這本書的排版和細節處理體現瞭齣版方的專業水準。紙張質量上乘,印刷清晰,公式推導部分使用瞭清晰的數學符號,閱讀起來毫無壓力。我注意到書中對一些關鍵概念的定義和闡述極其精準,例如對“結構因子”和“電子密度”的區分與聯係,被描繪得邏輯分明。更值得一提的是,它在討論先進技術,比如中子衍射或同步輻射光源下的數據采集與分析時,並沒有流於錶麵,而是深入探討瞭這些技術相對於傳統X射綫源的獨特優勢與挑戰。對於需要撰寫高水平學術論文的讀者來說,書中引用的經典文獻和對方法學曆史演變的梳理,能極大地拓寬視野,確保你的研究工作建立在堅實的學術背景之上,而不是空中樓閣。

评分☆☆☆☆☆

這本《單晶結構分析原理與實踐》簡直是材料科學與晶體學研究者的福音!我最近剛接觸這個領域,對X射綫衍射數據分析的流程和背後的物理圖像感到非常睏惑。書的結構安排得非常清晰,從最基礎的晶體對稱性講起,逐步深入到復雜的空間群確定和原子坐標優化。特彆是關於衍射數據質量控製和對稱性處理的部分,作者給齣瞭非常詳盡的案例和操作步驟,讓我這個新手能夠很快地建立起對整個分析流程的信心。書中對Symmetry Operations的解釋非常到位,結閤大量的圖示,即便是抽象的群論概念也變得直觀易懂。對於如何判斷衍射圖譜中的異常點和係統誤差,書中的論述也極具實踐指導意義。讀完前幾章,我感覺自己終於能理清頭緒,不再是盲目地敲擊軟件命令,而是真正理解瞭每一步操作背後的科學原理。這本書的理論深度和工程實用性達到瞭一個極佳的平衡點,對於想紮實掌握單晶衍射技術的科研人員來說,絕對是案頭必備的寶典。

评分☆☆☆☆☆

我是一個剛入門的研究生,手裏拿著一些很“不理想”的單晶數據,嘗試瞭幾個不同的軟件都收效甚微。這本書的齣現簡直就是一道曙光!最讓我感到驚喜的是它在“實踐”部分。作者沒有迴避真實世界中數據的不完美性,而是坦誠地列舉瞭各種常見問題——比如弱衍射、高背景、非理想的吸收校正等,並給齣瞭非常“接地氣”的解決方案。我按照書中關於數據預處理和初次解析的步驟來操作,竟然成功地得到瞭一個初步模型!書中的插圖非常清晰,尤其是那些關於衍射球和倒易空間的幾何關係圖,讓我瞬間明白瞭為什麼某些衍射點會消失或變弱。它不像一些教科書那樣高高在上,而是像一位經驗豐富的導師在手把手地帶著你解決實際問題,那種由內而外的自信感是其他任何教材都無法給予的。

评分☆☆☆☆☆

這本書的價值遠超其定價。我嘗試在不同的學科背景下使用它——從簡單的無機小分子到復雜的有機金屬框架材料。令人稱奇的是,它所構建的分析框架具有極強的普適性。它不僅關注靜態的晶體結構,還巧妙地引入瞭溫度因子和聲子信息對原子振動狀態的描述,這對於理解材料的宏觀性質至關重要。我特彆欣賞作者在討論“結構解析的局限性”時所展現的批判性思維。他們並沒有將單晶結構分析視為一個自動化的過程,而是強調瞭實驗人員的判斷力和對晶體學物理的深刻理解是不可替代的。這本書讀完後,我不僅學會瞭如何解析晶體結構,更重要的是,我學會瞭如何“思考”晶體結構。它是一部理論基石,也是一把解開材料世界奧秘的鑰匙。

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簡潔易懂

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書寫的不錯。。。inorg chem 必備...

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