高炉煤气净化与洗气水处理技术 pdf epub mobi txt 电子书 下载 2026

简体网页||繁体网页

☆☆☆☆☆

出版者:

作者:

出品人:

页数:118

译者:

出版时间:1992-6

价格:2.80元

装帧:

isbn号码:9787780010764

丛书系列:

图书标签:

• 高炉煤气
• 净化
• 洗气
• 水处理
• 环保技术
• 工业废气
• 冶金
• 环境保护
• 煤化工
• 节能减排

好的，以下是为您构思的图书简介，该书聚焦于其他特定领域的技术，不涉及《高炉煤气净化与洗气水处理技术》的内容。 --- 《先进半导体材料的缺陷控制与性能调控》 图书简介 随着信息技术的飞速发展，半导体器件正朝着更高集成度、更低功耗和更强性能的方向迈进。在这一进程中，半导体材料的纯度、晶体质量以及缺陷的精确控制，已成为制约下一代微电子、光电子乃至能源电子器件性能提升的关键瓶颈。本书《先进半导体材料的缺陷控制与性能调控》系统性地梳理了当前主流及新兴半导体材料（如硅基材料的超纯化、III-V族化合物半导体、宽禁带半导体如SiC和GaN，以及二维材料）在生长、加工和应用过程中所面临的本征缺陷、杂质缺陷及其引入机制，并深入探讨了如何通过先进的工艺手段和理论模型对其进行有效调控。 第一部分：半导体材料缺陷的本质与表征 本书首先聚焦于半导体材料中缺陷的物理化学本质。详细阐述了点缺陷（空位、间隙原子、间隙杂质、取代杂质）、线缺陷（位错）和面缺陷（晶界、堆垛层错）的形成热力学与动力学过程。特别关注了环境因素（如温度梯度、气氛、应力）对缺陷演化路径的影响。 在缺陷的表征方面，本书超越了传统的电学测量方法，重点介绍了多种先进的物理表征技术。包括高分辨率透射电子显微镜（HRTEM）在原子尺度缺陷成像中的应用，特别是同步辐射X射线吸收谱（XAS）和X射线光电子能谱（XPS）在确定缺陷电子态和化学环境中的精确诊断能力。此外，深度能级瞬态谱（DLTS）和光致发光（PL）谱学被系统性地应用于缺陷能级和寿命的量化分析。 第二部分：关键缺陷的工程化控制策略 本部分是本书的核心内容，致力于提供解决实际材料问题的工程化方案。 1. 晶体生长过程中的本征缺陷抑制： 针对外延生长和块状晶体生长（如CZ法、LEC法），详细分析了如何通过精确控制生长速率、冷却速率、气氛压力和温度梯度场，来最小化晶格失配导致的位错形成，以及氧、碳等关键本征杂质的共沉淀。对于化合物半导体，探讨了组分非均匀性对缺陷的诱发作用及其补偿机制。 2. 杂质的捕获、钝化与清除： 深入剖析了特定金属离子（如Fe, Cu, Ni）在半导体晶格中的扩散机制和激活状态。提出了多种杂质钝化技术，包括快速热处理（RTP）中气氛的调控、氢钝化在PN结和MOS结构界面的有效性。同时，系统介绍了高真空沉积技术中对前驱体纯度的极致要求，以及后处理过程中用于清除残留杂质的化学机械抛光（CMP）和刻蚀策略。 3. 应力诱导缺陷的调控： 在异质结结构和高应变薄膜生长中，应力积累是导致膜层开裂和位错成核的主要原因。本书详细介绍了如何通过缓冲层设计（Graded Buffer Layers）、应力补偿层的使用，以及利用激光退火等技术，在不破坏器件结构的前提下，有效缓解晶格失配应力，从而大幅提高异质结构件的可靠性。 第三部分：缺陷工程在先进器件中的应用 本书将理论与应用紧密结合，展示了如何将缺陷控制技术转化为实际的器件性能提升。 1. 宽禁带半导体（SiC/GaN）的可靠性提升： 重点分析了SiC衬底中的碳化硅堆垛层错（SBCS）和GaN中的极性散射效应如何影响载流子迁移率和击穿电压。阐述了通过特定掺杂剂（如氮）对碳化硅缺陷进行“缺陷工程”改造，实现缺陷的“良性化”处理，以提高肖特基势垒二极管（SBD）和功率MOSFET的长期工作稳定性。 2. 界面缺陷的精细化管理： 针对高K/金属栅极结构和InGaAs/GaAs异质结，详细探讨了界面态的产生机理。重点介绍了ALD（原子层沉积）技术在形成超薄、高界面质量的栅氧化层或缓冲层中的优势，以及等离子体处理（PECVD/ICP）中对界面缺陷的损伤与修复机制的辩证关系。 3. 量子点与二维材料的能级调控： 在新兴领域，本书探讨了量子点（QD）表面的悬挂键缺陷如何导致荧光猝灭。介绍了配体工程和表面钝化技术如何精确调控QD的发光效率和光谱纯度。对于石墨烯、MoS₂等二维材料，分析了边缘缺陷和晶界缺陷对电荷传输的影响，以及通过选择性掺杂和电场调控来实现载流子有效性的定制。 结论与展望 本书最后总结了当前半导体材料缺陷研究的前沿方向，包括利用第一性原理计算（DFT）对新材料体系中候选缺陷进行快速筛选，以及在极端环境（高温、高辐射）下材料的缺陷演化预测模型。旨在为材料科学家、器件工程师及相关领域的科研人员提供一本兼具理论深度和实践指导意义的参考手册。本书深入浅出，逻辑严谨，是理解和掌握先进半导体材料性能调控的必备工具书。 ---

评分☆☆☆☆☆

评分☆☆☆☆☆

评分☆☆☆☆☆

评分☆☆☆☆☆

评分☆☆☆☆☆

评分☆☆☆☆☆

评分☆☆☆☆☆

评分☆☆☆☆☆

评分☆☆☆☆☆

评分☆☆☆☆☆