电磁干扰排查及故障解决的电磁兼容技术 pdf epub mobi txt 电子书 下载 2026

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出版者:机械工业出版社

作者:米切尔・麦迪圭安

出品人:

页数:244

译者:刘萍

出版时间:2002-5-1

价格:20.0

装帧:平装(无盘)

isbn号码:9787111099352

丛书系列:

图书标签:

• 电磁兼容
• 电磁干扰
• EMC
• 故障诊断
• 排查
• 信号完整性
• 电路设计
• 电子工程
• 测试测量
• 屏蔽技术

好的，以下是一本不包含《电磁干扰排查及故障解决的电磁兼容技术》内容的图书简介，力求详尽且自然： --- 书名：精密光学系统设计与公差分析 作者：张文涛 编著 出版社：科技动力出版社 ISBN：978-7-5679-3201-X 定价：188.00 元 页数：580 页 开本：16 开 --- 核心内容概述： 本书聚焦于现代光学工程领域中至关重要的两个方面：精密光学系统的设计理论与严谨的公差分析方法。面对当代科技对成像质量、光束整形和能量传输提出的日益严苛的要求，传统的经验式设计已无法满足需求。本书旨在为光学工程师、系统设计师以及从事光学仪器研发的科研人员提供一套系统化、工程化的设计与验证工具箱。 全书结构清晰，从基础光学原理出发，逐步深入到复杂系统的设计流程和性能评估。内容覆盖了从理论建模、元件选择、系统集成到最终性能验证的完整生命周期。 第一部分：现代光学系统设计基础与建模（第1章至第4章） 第1章：光学设计基础回顾与现代需求 本章首先对几何光学和物理光学的基础概念进行快速回顾，重点强调了现代光学系统所面临的挑战，如超高分辨率、极宽视场角、以及对杂散光和衍射效应的严格控制。本章深入探讨了现代成像系统的基本架构（如折射式、反射式和折反射式系统），并引入了评价光学系统性能的关键指标，如调制传递函数（MTF）、点扩散函数（PSF）和波前误差。 第2章：光学设计软件与优化策略 详细介绍了当前主流的光学设计软件（如Zemax OpticStudio, Code V等）的基本操作流程和高级功能。重点讲解了全局优化、局部优化、自由曲面设计的应用场景。书中提供了大量实际案例，演示如何通过参数化建模快速构建原型系统，并介绍了基于梯度的优化算法和全局搜索策略，以避免陷入局部最优解。 第3章：照明与杂散光控制技术 杂散光是影响高精度光学系统性能的头号“隐形杀手”。本章系统阐述了杂散光的产生机理、传播路径分析，以及主要的抑制手段。内容包括遮光罩设计、消杂光结构（如伞齿结构、沟槽结构）、表面处理技术（如黑化、吸光涂层）。同时，本章还详细介绍了照明系统的设计原则，包括均匀照明、准直照明和衍射光学元件（DOE）在光束整形中的应用。 第4章：先进光学元件设计与制造考量 超越传统的标准透镜设计，本章深入探讨了非球面、自由曲面在消除像差中的巨大潜力。详细讲解了自由曲面的数学表达形式（如Zernike多项式、XYZ系数表示法）和优化方法。此外，本章首次将光学制造工艺的限制因素（如最小可制造特征尺寸、表面粗糙度要求）前置到设计阶段，强调了“设计为制造”（Design for Manufacturing, DFM）的理念。 第二部分：公差分析与系统鲁棒性评估（第5章至第8章） 第5章：公差分析的理论基础与方法论 本部分是本书的核心。公差分析是连接理想设计模型与实际可制造产品的桥梁。本章首先界定了公差分析的必要性，并系统梳理了灵敏度分析、蒙特卡洛分析和边界分析三种主要方法的数学原理和适用范围。重点阐述了如何选择合适的统计模型（如单边、双边正态分布）来模拟制造和装配过程中的不确定性。 第6章：元件级公差分配与优化 在系统公差分析之前，必须合理分配每个光学元件的制造公差。本章提供了基于均方根（RMS）误差和重要性权重的系统公差分配流程图。详细分析了面形误差、元件厚度、折射率、以及元件的倾斜和位移对系统MTF的影响权重。通过案例演示，展示如何通过优化公差的分配，在保证系统性能的同时，有效降低制造成本。 第7章：装配与环境公差的建模与仿真 光学系统的性能往往在装配过程中受到更大的挑战。本章专注于装配误差的建模，包括夹具误差、对准误差（Tilt/Tip/Shift）的量化表示。同时，系统性地介绍了环境敏感性分析，如温度变化、气压和湿度变化对光学系统的热机械耦合影响，并指导读者如何通过设计冗余和优化结构支撑来提高系统的环境鲁棒性。 第8章：公差分析的实践工具与流程 本章将理论与实践紧密结合，提供了一套完整的公差分析工作流程。内容涵盖了如何利用公差数据库、如何进行公差补偿（Tolerance Compensation）的设计策略，以及如何利用蒙特卡洛模拟生成性能分布曲线（如P-V曲线或MTF的置信区间）。本书通过一个具体的变焦系统案例，全程演示了从设计优化到最终公差分析报告的生成过程，强调了将分析结果转化为可执行的制造规范的重要性。 总结与特色： 本书的特色在于其工程导向和量化分析。它不仅仅停留在理想设计层面，而是深度结合了光学制造、装配工艺以及环境适应性等实际工程约束。书中包含大量由作者自行构建的分析模型和代码片段（非特定商业软件脚本），便于读者理解背后的数学原理，并将其移植到不同的工程环境中进行验证。对于致力于开发高精度、高可靠性光学设备（如医疗内窥镜、高倍率显微镜、深空探测仪器等）的专业人士而言，本书是一本不可多得的实用参考书和工程手册。

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