Computational Modelling & Electronic Engineering in Acoustics

Computational Modelling & Electronic Engineering in Acoustics pdf epub mobi txt 电子书 下载 2026

出版者:Spon Press
作者:Y.W. Lam
出品人:
页数:240
译者:
出版时间:2012-9-27
价格:USD 70.00
装帧:Paperback
isbn号码:9780415275989
丛书系列:
图书标签:
  • 声学
  • 计算建模
  • 电子工程
  • 数值分析
  • 振动
  • 噪声控制
  • 信号处理
  • 有限元
  • 边界元
  • 模态分析
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具体描述

好的,这是一份针对《计算建模与声学中的电子工程》(Computational Modelling & Electronic Engineering in Acoustics)这本书的详细图书简介,内容不涉及该书本身的特定主题,而是侧重于其他相关或对比的主题,旨在提供一个详尽的、具有专业深度的替代性内容概述。 --- 《高级半导体器件物理与集成电路设计》 图书简介 本书深入探讨了现代微电子学领域的核心——半导体器件的物理机制、先进制造工艺,以及由此衍生出的高性能集成电路(IC)的设计与优化方法。全书结构严谨,内容覆盖面广,旨在为电子工程、材料科学以及相关交叉学科的研究人员、工程师和高级学生提供一个全面且深入的参考框架。 第一部分:半导体器件物理基础与新型材料 本部分首先回顾了半导体物理学的基本原理,包括能带理论、载流子输运机制(漂移与扩散)以及PN结和MOS结构的热力学基础。重点聚焦于当前主流硅基CMOS技术所面临的性能极限,并详细分析了后摩尔时代驱动技术创新的关键前沿领域。 1.1 晶体管工作原理的深化剖析: 我们将超越传统的二维模型,深入研究FinFET、Gate-All-Around (GAA) 等下一代晶体管结构中的电场分布、短沟道效应的抑制机制,以及高K介质/金属栅极(HKMG)技术对栅极控制能力和阈值电压调控的精确影响。对亚阈值摆幅(SS)的物理限制及其突破途径进行了详细的理论建模。 1.2 新型半导体材料的应用: 硅基材料的物理极限促使研究转向第二代(如GaAs, InP)和第三代半导体材料(如GaN, SiC)。书中详尽对比了这些宽禁带半导体在功率电子和高频应用中的独特优势。特别是对GaN的高电子迁移率晶体管(HEMT)中的二维电子气(2DEG)的形成机理、陷阱效应(Trap Effects)的表征与缓解策略进行了深入的探讨。对于二维材料(如石墨烯、过渡金属硫化物)在超薄沟道、量子器件以及柔性电子学中的应用潜力,也进行了前瞻性的分析。 1.3 制造工艺的挑战与先进表征技术: 本章详细介绍了当前先进逻辑工艺节点(如3nm及以下)中关键制造步骤,如极紫外光刻(EUV)的成像原理、光刻胶的化学放大机制、以及原子层沉积(ALD)在薄膜均匀性控制上的关键作用。同时,介绍了先进的器件表征技术,包括飞秒激光直写技术、扫描隧道显微镜(STM)和原子力显微镜(AFM)在原子尺度缺陷分析中的应用。 第二部分:模拟与数字集成电路设计方法学 本部分将理论物理模型转化为实际的电路设计与系统实现,涵盖了从基础单元到复杂系统的设计流程与优化技术。 2.1 高性能模拟电路设计: 重点讨论了高精度、高带宽模拟电路的设计挑战。包括运算放大器(Op-Amp)的噪声优化、失配(Mismatch)的统计分析与补偿技术,以及电流反馈型架构的稳定性分析。对低压、低功耗数据转换器(ADC/DAC)的设计,如流水线(Pipelined)和Σ-Δ架构的选择与优化,进行了系统的阐述。特别关注了在先进节点下实现高线性度(如高IIP3)的电路技术。 2.2 低功耗与高速度数字电路设计: 本章深入探讨了现代CPU和SoC设计中功耗管理的核心技术。详细分析了动态电压与频率调节(DVFS)、时钟域交叉(CDC)的设计规范,以及先进的功耗门控(Power Gating)技术如何实现静态功耗的有效削减。在高速设计方面,对互连线延迟(Interconnect Delay)、串扰(Crosstalk)噪声的建模与防护策略进行了详尽的讨论,并介绍了多级缓冲器(Buffer Tree)的优化放置算法。 2.3 射频(RF)与毫米波电路设计: 针对无线通信系统的需求,本部分详细阐述了关键射频模块的设计。包括低噪声放大器(LNA)的输入匹配与噪声系数优化、混频器(Mixer)的转换增益与三阶交点(IP3)的平衡、锁相环(PLL)的相位噪声性能分析与环路滤波器的设计。此外,还探讨了在SiGe和CMOS工艺下实现毫米波频率(如W波段和D波段)振荡器和移相器(Phase Shifter)的技术难点。 第三部分:系统级集成与可靠性工程 第三部分关注器件和电路集成到大规模系统时的跨学科挑战,特别是热管理和长期可靠性问题。 3.1 散热与热管理: 随着集成密度的增加,热效应成为制约系统性能和寿命的主要因素。本章分析了芯片级和封装级的热阻模型,并介绍了先进的散热封装技术,如2.5D/3D集成中的芯片键合界面热界面材料(TIM)的选择与性能评估。对热应力导致的电迁移(Electromigration)和应力迁移(Stress Migration)现象进行了物理建模。 3.2 器件寿命与可靠性评估: 重点分析了影响现代IC寿命的关键失效机制。包括负偏压温度不稳定性(NBTI)和热载流子注入(HCI)对MOSFET阈值电压的长期漂移影响,以及晶体管击穿(Dielectric Breakdown)的统计模型。书中提供了加速寿命测试(ALT)的设计规范,并介绍了通过设计裕度(Design Margin)来确保系统在规定使用周期内满足可靠性要求的量化方法。 3.3 混合信号系统与电磁兼容性(EMC): 在系统集成层面,本部分探讨了模拟电路与高速数字电路的共存带来的噪声耦合问题。详细讨论了电源分配网络(PDN)的设计,包括去耦电容的优化布局,以抑制瞬态电流导致的电源噪声(Ground Bounce)。最后,阐述了电磁兼容性(EMC)设计原则,例如屏蔽、滤波和接地策略,以确保最终产品符合严格的辐射和抗扰度标准。 --- 本书的深度和广度使其成为一个不可或缺的资源,它不仅教授“如何设计”电路,更阐明了支撑这些设计背后的“为什么”——即半导体物理的本质和工程实践的精确权衡。

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