Chemical Vapor Deposition of Tungsten and Tungsten Silicides for VLSI/ ULSI Applications pdf epub mobi txt 電子書 下載 2024


Chemical Vapor Deposition of Tungsten and Tungsten Silicides for VLSI/ ULSI Applications

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Schmitz, John E. J.
William Andrew Pub
1993-1
254
$ 162.72
HRD
9780815512882

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发表于2024-12-04

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圖書描述

This monograph condenses the relevant and pertinent literature on blanket and selective CVD of tungsten (W) into a single manageable volume. The book supplies the reader with the necessary background to bring up, fine tune, and successfully maintain a CVD-W process in a production set-up. Materials deposition chemistry, equipment, process technology, developments, and applications are described.

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