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出版者:McGraw-Hill

作者:Sicard, Etienne/ Bendhia, Sonia Delmas

出品人:

頁數:364

译者:

出版時間:2007-4

價格:833.00元

裝幀:HRD

isbn號碼:9780071488365

叢書系列:

圖書標籤:

CMOS設計
模擬電路
數字電路
集成電路
VLSI
電路設計
半導體
低功耗設計
高級設計
工藝建模

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具體描述

Take Advantage of Today's Most Sophisticated Techniquesfor Designing and Simulating Complex CMOS Integrated Circuits! An essential working tool for electronic circuit designers and students alike, Advanced CMOS Cell Design is a practice-based guide to today's most sophisticated design and simulation techniques for CMOS (complementary metal oxide semiconductor) integrated circuits. Written by two internationally renowned circuit designers, this outstanding book presents the state-of-the-art techniques required to design and simulate every type of CMOS integrated circuit. The reference contains unsurpassed coverage of deep-submicron to nanoscale technologies...SRAM, DRAM, EEPROM, and Flash...design of a simple microprocessor...configurable logic circuits...data converters...input/output...design rules...and much more. Packed with 100 detailed illustrations, Advanced CMOS Cell Design enables you to: Explore the latest embedded memory architectures Master the programming of logic circuits Get expert guidance on radio frequency (RF) circuit design Learn more about silicon on insulator (SOI) technologies Acquire a full range of circuit simulation tools This Advanced CMOS Circuit Design Toolkit Covers- * Deep-Submicron to Nanoscale Technologies * SRAM, DRAM, EEPROM, and Flash * Design of a Simple Microprocessor * Configurable Logic Circuits * Radio Frequency (RF) Circuit Design * Data Converters * Input/Output * Silicon on Insulator (SOI) Technologies * Impact of Nanotechnologies * Design Rules * Quick-Reference Sheets

《Advanced CMOS Cell Design》是一部旨在為工程師和研究人員提供全麵係統指導的專業書籍。這本書詳細介紹瞭現代半導體技術中的核心內容，專注於CMOS（Complementary Metal-Oxide-Semiconductor）器件的設計與優化。它係統性地解析瞭微縮技術的發展趨勢，通過深入剖析工藝流程、材料選擇和結構優化，為讀者提供實用且前沿的解決方案。書中內容涵蓋從基礎原理到復雜應用的一係列主題，詳細探討瞭CMOS單元內部電路的工作機製，包括晶體管的設計、互連網絡的構建以及信號傳輸路徑的優化。讀者將能夠清晰理解如何在不同製造工藝下實現性能提升，並掌握關鍵參數的調控方法。書中還詳細講解瞭先進製造技術對器件密度和功耗影響，幫助讀者深入分析這些因素如何在實際項目中影響設計決策。此外，本書強調瞭多物理場耦閤效應及其對CMOS設計的製約，這對於追求高性能、低漏力耗電設備至關重要。通過大量案例與實例，讀者能夠學習到如何在設計過程中兼顧效率與穩定性，並藉助現代仿真工具進行驗證與優化。這部分內容不僅適用於半導體行業的工程師，也為相關領域的研究人員提供瞭重要的參考資料。書中還注重理論與實踐的結閤，係統介紹瞭新材料（如高k介電材料、相移器件等）在CMOS設計中的應用前景，幫助讀者把握未來科技的發展方嚮。同時，通過詳細解析工藝流程、設備選型及成本控製，讀者能夠更全麵地理解整個生産鏈條，從晶圓製造到封裝，再到最終係統性能的整體優化。《Advanced CMOS Cell Design》不僅是一本技術手冊，更是一種深度學習半導體領域知識的重要資源。它不僅詳細描述瞭各類設計參數和工藝步驟，還引導讀者思考實際應用中的問題，從而提升整體工程能力。書中豐富的圖示、錶格與專題討論，使其在內容厚實、結構清晰的同時，避免瞭過於簡化的解釋，更適閤專業從業人員深入學習和應用。這本書適用於高校課程教材、研究課題寫作以及工程項目中的技術參考，其目標是讓讀者掌握最新的設計方法和先進技術，為未來的創新提供堅實基礎。這是一份兼具深度與廣度的權威資料，值得所有對半導體技術感興趣的人士一讀。