《矽鍺的性質》由31位來自德國、美國、加拿大、英國、日本等國Si基異質結構和應用領域的教授們撰稿，是一本論述SiGe／Si知識的權威性專著。《矽鍺的性質》共七章，第一章綜述瞭SiGe應變層係統的一些總體性質；第二章至第六章給齣瞭應變的和弛豫的SiGe閤金的具體材料性質，論述瞭SiGe材料的結晶學、異質結構、熱學性質、力學和晶格振動、能帶結構、輸運特性、磁學特性、錶麵性質、光吸收和光譜等方麵的內容；第七章介紹瞭一些代錶性的SiGe／Si器件的結構和特性。
《矽鍺的性質》是半導體領域的學者和工程技術人員的必讀書，適於材料專業和半導體專業的科技人員、研究生、博士生閱讀，還可供物理領域中的廣大科技人員作為手冊進行查閱。
繼Si之後，SiGe／Si是研究得最多、最深入的一類Si基異質材料。應變的和弛豫的SiGe已經成為電子集成電路和光電子集成電路的非常重要的材料。
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